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上海微电子装备:第一台28nm国产光刻机交付在即

2020-06-08 11:06:36 来源 : 快科技

据媒体报道,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。

虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂,但是差距已经大大缩小,毕竟在此之前国产光刻机还是90nm。

据悉,上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商,从低端切入各个细分市场,,同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先,LED光刻机市占率第一。

600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造

上海微电子现有4大系列的光刻机产品,其中,采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,

500系列面向IC后道先进封装,300系列面向LED、MEMS、功率器件制造,200系列面向TFT曝光。

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